Doppio appuntamento per gli amanti della fotografia

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Doppio appuntamento a maggio per gli estimatori della fotografia d’arte e d’autore, il calendario degli eventi si arricchisce infatti di ben due manifestazioni dedicate a tale disciplina artistica.  Torna a New York, dopo il successo del debutto nel 2008, il New York Photo Festival che tenterà di riconfermare l’importanza di un evento che ha finalmente offerto alla grande mela una degna vetrina per la fotografia internazionale.

Quest’anno Daniel Power e Frank Evers, direttori della manifestazione hanno selezionato un gruppo di curatori di fama internazionale costituito da William A. Ewing, Chris Boot, Jody Quon, e Jon Levy. Tali nomi conosciuti in tutto il mondo dell’arte porteranno la loro personale visione ed il loro intrigante e provocatorio sguardo sulla fotografia nei padiglioni del festival, selezionando ed esibendo il meglio della fotografia internazionale.

Dal 7 maggio al 10 maggio 2009 sarà invece il turno di Madridfoto, la prima edizione della fiera internazionale di fotografia di Madrid. L’evento si terrà nel padiglione 6 della Fiera di Madrid in uno spazio completamente disegnato da Andrés Jaque che ha rielaborato la superficie espositiva in modo da ospitare al meglio e valorizzare le opere proposte dalle 47 gallerie partecipanti.

Madridfoto ospiterà le opere di oltre 230 artisti di caratura internazionale tra cui svettano i nomi di: Andrés Serrano, Duane Michals,Erwin Olaf, Marina Abramovic, Martin Parr, Nan Goldin, Paul Graham, Phillip Lorca-DiCorcia, Pierre Gonnord, Rineke Dijsktra, Robert Mapplethorpe, Roland Fischer, Sean Scully, Stan Douglas, Sylvia Plachy, Wolfgang Tillmans e tanti altri.

Il comitato organizzatore della fiera ha inoltre annunciato che all’evento parteciperanno una rosa di gallerie accuratamente selezionate che sapranno offrire il giusto risalto ad una manifestazione di così grande importanza che farà di tutto per offrire ad una città importante come Madrid un evento degno e di caratura internazionale.

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